工程管理装置および工程管理方法、制御プログラム、可読記録媒体

Process control device and process control method, control program, readable recording medium

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To enhance yield and device performance by optimizing deposition conditions (process parameters).SOLUTION: A process control device comprises process parameter collection means 111 for collecting process parameters containing a series of feature amounts of fluctuation period and stable period during production of products for every production sequence, feature amount calculation means 112 for extracting the feature amount of collected process parameters that is the feature amount of fluctuation period and stable period, quality information collection means 113 for collecting quality information indicating yield and performance of products thus produced, and feature amount determination means 114 for determining the feature amount of process parameters that most contribute to yield and performance by performing correlation analysis using the feature amount of process parameters and the quality information.
【課題】成膜条件(プロセスパラメータ)の最適化によって歩留まりやデバイス性能を向上させる。 【解決手段】製品を製造する際の変動期間と安定期間の一連の特徴量を含むプロセスパラメータであって、製造シーケンス毎にプロセスパラメータを収集するプロセスパラメータ収集手段111と、収集されたプロセスパラメータの特徴量であって変動期間と安定期間の特徴量を抽出する特徴量算出手段112と、製造された製品の歩留りおよび性能を示す品質情報を収集する品質情報収集手段113と、プロセスパラメータの特徴量および品質情報を用いて相関分析を行うことにより、歩留りおよび性能への寄与度が最も大きいプロセスパラメータの特徴量を決定する特徴量決定手段114とを有している。 【選択図】図1

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